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技術(shù)知識(shí)

高引燃脈沖新HiPIMS模式下薄膜摩擦系數(shù)可降低到0.25

-引言-

多層薄膜能顯著改善復(fù)雜環(huán)境下部件的性能和壽命,為獲得性能良好的膜層,研發(fā)團(tuán)隊(duì)提出了一種高引燃脈沖新HiPIMS放電技術(shù)。增加引燃脈沖的個(gè)數(shù),強(qiáng)化了膜層的結(jié)合力,硬度以及摩擦磨損的性能。


-點(diǎn)睛-

采用了一種新型復(fù)合多脈沖高功率電源,脈沖電壓由高電壓、低脈寬激發(fā)瞬時(shí)大電流的引燃電壓,以及低電壓、高脈寬的維持放電的工作電壓兩部分組成。


-內(nèi)容-

新型復(fù)合多脈沖高功率電源在引燃脈沖階段高電壓激發(fā)會(huì)使得靶前產(chǎn)生雪崩電離,靶電流迅速升高,真空爐內(nèi)活性粒子數(shù)量急劇增加。引燃脈沖在脈沖周期中的個(gè)數(shù)對(duì)于放電模式以及薄膜質(zhì)量有顯著的影響。
引燃脈沖個(gè)數(shù)到四時(shí),隨著引燃脈沖數(shù)量的增多,薄膜的表面突起尺寸明顯減小,晶粒得到細(xì)化,且晶粒形貌由山峰狀變?yōu)槔忮F狀,分布趨于均勻,表面晶體更加致密。膜層排列更加緊密,大大降低膜層的粗糙度,降低摩擦因數(shù)。


HiPIMS

圖1 引燃脈沖個(gè)數(shù)為4時(shí)對(duì)薄膜摩擦系數(shù)

電子和離子以較高能量沉積在基體表面,將結(jié)合力較弱的原子濺射剝離,顯著改善薄膜的結(jié)合強(qiáng)度?;w表面的溫度上升,提升了沉積時(shí)粒子的遷移能量,反應(yīng)離子的化學(xué)活性也增加,有效促進(jìn)了反應(yīng)濺射的熱力學(xué)進(jìn)程,使得表面更加致密,也增加了硬度

HiPIMS

 圖2 引燃脈沖個(gè)數(shù)對(duì)涂層硬度的影響

-結(jié)論-


(1)HiPIMS新模式使薄膜硬度上升。

(2)薄膜表面粗糙度、摩擦因數(shù)0.25、摩痕寬度下降。

(3)結(jié)合力增加,三和四引燃脈沖下結(jié)合力能達(dá)到HF1。

(4)膜層厚度在引燃脈沖個(gè)數(shù)為三時(shí)最大。

-參考文獻(xiàn)-

[1]高凱晨,鞏春志,徐嘯塵等.高引燃脈沖新HiPIMS模式對(duì)TiN/CrN多層膜結(jié)構(gòu)和性能的影響[J].中國(guó)表面工程,2022,35(05):145-154.


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