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真空鍍膜過程中可能出現(xiàn)哪些缺陷
針孔是真空鍍膜中較為常見的問題。這主要是由于鍍膜材料在沉積過程中，基片表面的微小雜質(zhì)、灰塵或者氣體殘留所導(dǎo)致。例如，在蒸發(fā)鍍膜時(shí)，如果基片清洗不夠徹底，表面殘留的顆粒會(huì)使鍍膜材料在其周圍無法均勻沉積，形成針孔。
高能脈沖PVD技術(shù)相比傳統(tǒng)PVD有何優(yōu)勢(shì)？
致密度更高：高能脈沖PVD在沉積過程中，能夠產(chǎn)生高密度的等離子體，使沉積粒子具有更高的能量，從而在基底上形成更致密的膜層。例如，在制備硬質(zhì)涂層時(shí)，其形成的膜層結(jié)構(gòu)更加緊密
高能脈沖PVD技術(shù)可以制備哪些膜層？
如氮化鈦（TiN）膜層。TiN具有高硬度、良好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性。在刀具涂層領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，通過高能脈沖PVD技術(shù)制備的TiN膜層，能夠顯著提高刀具的使用壽命。
高能脈沖 PVD 的基本物理原理是什么？
PVD是在高溫下將靶材蒸發(fā)后沉積到工件表面形成鍍膜的技術(shù)。高能脈沖PVD是PVD技術(shù)的一種改進(jìn)形式，它的基本物理原理如下：
2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室以及等離子體放電團(tuán)隊(duì)孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室會(huì)議中心成功舉行。
2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行
12月14日，“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室舉辦。此次論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。
250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞，共探技術(shù)產(chǎn)業(yè)融合路徑
12月14日，來自高校、中國科學(xué)院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”，共同研討高能脈沖PVD（真空鍍膜）領(lǐng)域的研究成果和未來發(fā)展趨勢(shì)。論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、新鉑科技（東莞）有限公司聯(lián)合舉辦。
2024大灣區(qū)高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦，引領(lǐng)行業(yè)前沿發(fā)展
2024年12月14日，備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實(shí)驗(yàn)室盛大召開。
本次論壇匯聚了北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、中科院固體所、華南理工大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、澳門大學(xué)、香港城市大學(xué)、季華實(shí)驗(yàn)室以及華為、華星光電等250多位國內(nèi)該領(lǐng)域的專家、學(xué)者以及企業(yè)代表，共同探討高能脈沖PVD技術(shù)的進(jìn)展與未來趨勢(shì)，為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。