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真空鍍膜pvd的工藝流程

 真空鍍膜是一種常用的表面處理技術,用于在各種材料表面形成薄膜。下面是真空鍍膜(PVD)的典型工藝流程。

hipims技術是物理還是化學

 HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技術是一種物理上的表面處理技術,它結合了直流磁控濺射(DCMS)和脈沖功率供應,以實現(xiàn)更高的能量和離子密度。

鍍膜工藝技術分類和理論

鍍膜工藝技術是一種將薄膜沉積在基材表面的工藝過程,以增強基材的功能和性能。根據不同的工藝原理和沉積方法,可以將鍍膜工藝技術分為不同的分類。以下是關于鍍膜工藝技術分類和理論的簡要說明:

真空鍍膜電源為什么一定要接地?

真空鍍膜電源之所以需要接地是為了確保安全性和保護設備運行的穩(wěn)定性。

鍍膜電源壞了如何進行維修?

鍍膜電源是一種廣泛用于電鍍設備中的電源裝置,它主要負責供應電流和電壓,控制電解質溶液中的離子濃度,保證電鍍質量和工藝穩(wěn)定性。如果鍍膜電源壞了,會影響整個電鍍設備的運行,因此及時進行修理。

鍍膜電源一般應用在什么產品上

鍍膜電源是一種特殊的電源設備,廣泛應用于各種需要鍍膜的領域。以下是鍍膜電源主要應用的一些產品:
光學產品:鍍膜電源在光學產品制造中發(fā)揮著重要的作用。例如,眼鏡片、相機鏡頭、望遠鏡等都需要進行鍍膜處理以增強其光學性能。

鍍膜工藝技術分類和理論

鍍膜工藝技術分為真空蒸發(fā)鍍膜、電阻式蒸發(fā)鍍膜、電子束蒸發(fā)鍍膜等。
真空蒸發(fā)鍍膜是把待鍍膜的基片或工件置于高真空室內,通過加熱使成膜材料氣化(或升華)而淀積到基片或工件表面上,從而形成一層薄膜的工藝過程。

真空鍍膜技術入門概念

真空鍍膜技術是一種在真空中制備薄膜材料的技術,它是材料科學、物理學、化學和工程技術的交叉領域。以下是對真空鍍膜技術的一些基本概念的介紹: