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點(diǎn)擊關(guān)注，了解最前沿的真空應(yīng)用技術(shù)，跟隨新鉑科技走向未來！
在展示區(qū)展出了新鉑等離子體鍍膜工藝成品與電源設(shè)備，讓參展的嘉賓與展商皆感嘆新鉑科技在真空應(yīng)用領(lǐng)域技術(shù)實(shí)力！
耗散功率竟然能影響銅濺射等離子體的行為！
本文研究了在銅濺射等離子體中耗散功率對其影響的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。通過光發(fā)射光譜技術(shù)進(jìn)行測量，探討了耗散功率對銅濺射等離子體的物理特性和行為的影響。
通過實(shí)驗(yàn)結(jié)果發(fā)現(xiàn)，耗散功率的增加導(dǎo)致銅濺射等離子體中的電子溫度和密度的增加。此外，還觀察到了濺射過程中的輻射特性和粒子輸運(yùn)行為的變化。
管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，
一文讀懂濺射沉積技術(shù)
濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜技術(shù)具有可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積，薄膜與基體結(jié)合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)，而且任何物質(zhì)都可以進(jìn)行濺射，因而近年來發(fā)展迅速，應(yīng)用廣泛。
真空鍍膜和電鍍的區(qū)別
真空鍍膜和電鍍都是常見的表面處理技術(shù)，用于改善物體外觀和性能。它們有一些共同點(diǎn)，但也存在著一些明顯的區(qū)別。下面我將詳細(xì)介紹這兩種技術(shù)的區(qū)別。
HiPIMS：簡單的方法就能調(diào)控磁控濺射中的金屬/氣體離子比？
1）磁控濺射：HiPIMS中簡單的脈寬變化，就能調(diào)控膜層中的金屬/氣體離子比。
2）常規(guī)的磁控靶換成HiPIMS電源就可以達(dá)到上述效果。
不平凡的釩靶HiPIMS（放電區(qū)直徑約３０ｍｍ放電電流達(dá)１４０Ａ）
金屬釩（V）作為一種高熔點(diǎn)的稀有金屬材料，常與鈮、鉭、鎢、鉬并稱為難熔金屬。金屬釩具有耐鹽酸和硫酸的性能，并且耐氣-鹽-水腐蝕的性能要比大多數(shù)不銹鋼好。在某些特殊的重要場合，金屬V薄膜常被用來作為高溫隔離防護(hù)涂層，因此開展V靶HIPIMS放電特性方面的研究工作具有重要的意義。